Générateur RF série Ai RF500
Le générateur RF Ai RF500 fournit une puissance de sortie fiable de 500 watts avec une fréquence stable de 13,56 MHz, idéale pour les systèmes PECVD DIY et les applications telles que la gravure au plasma, le nettoyage et la polymérisation. Sa conception robuste prend en charge des tubes jusqu'à 150 mm de diamètre extérieur, garantissant une polyvalence pour une gamme de processus basés sur le plasma.
Caractéristiques principales :
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Puissance de sortie : réglable de 5 à 500 watts avec contrôle précis des pas de +/-1 %.
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Stabilité de fréquence : 13,56 MHz avec une précision impressionnante de +/- 0,005 %.
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Adaptation automatique : adaptation d'impédance transparente pour un fonctionnement efficace.
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Port de sortie RF : connecteur femelle de type N 50 Ω pour compatibilité avec divers systèmes.
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Refroidissement : Le système de refroidissement par air assure un fonctionnement stable et continu.
Caractéristiques:
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Exigences électriques : 208-240 volts, 50/60 Hz
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Puissance de réflexion : Jusqu'à 200 watts maximum
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Tubes pris en charge : jusqu'à 150 mm de diamètre extérieur
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Construction : Durable et conçue pour des performances constantes dans des conditions exigeantes
Applications :
- Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)
- Gravure au plasma et modification de surface
- Nettoyage au plasma et élimination de la contamination
- Polymérisation plasma pour revêtements de matériaux
Le générateur RF Ai RF500 combine précision, puissance et fiabilité, ce qui en fait un choix de premier ordre pour les systèmes plasma de recherche et industriels.