Horno de tubo dividido de 1 zona, 1200 °C, 50 mm de diámetro exterior

Horno de PE/CVD de 1200 °C con generador de RF, sistema de mezcla de gases y bombeo (serie STF1200)

La serie STF1200 es un sistema de horno de deposición química en fase de vapor (CVD) y deposición química en fase de vapor mejorada con plasma (PECVD) , diseñado para el procesamiento avanzado de materiales con un control preciso de la temperatura, mejorado por un generador de RF , un sistema de mezcla de gases y un sistema de bombeo . Este horno proporciona soluciones eficientes para crear películas delgadas, revestimientos y otros materiales que requieren condiciones atmosféricas y de temperatura precisas.

Características principales:

• Diseño compacto y portátil:

  • El horno está diseñado para ser compacto y móvil, lo que facilita su integración en diversos entornos de laboratorio y producción.

• Calefacción y aislamiento avanzados:

  • Los elementos calefactores de alambre de resistencia Kanthal® (Suecia) A1 2.0 están integrados en un aislamiento de alúmina de fibra de grado 1500 Mitsubishi® (Japón) , lo que ofrece una excelente eficiencia térmica.
  • La carcasa de acero de doble capa minimiza la pérdida de calor hacia el exterior y al mismo tiempo garantiza la durabilidad.

• Control eficiente de la temperatura:

  • El horno está controlado por un controlador digital Eurotherm® (Reino Unido) que proporciona un autoajuste preciso basado en microprocesador PID para un control óptimo de la temperatura con un sobreimpulso mínimo.
  • Rango de temperatura: Máx. 1200°C y temperatura de trabajo constante de 1100°C.
  • Tipo de termopar: Tipo K para una medición de temperatura confiable y precisa.
  • Velocidad de calentamiento: Menos de 30°C/min , adecuado para ajustes rápidos de temperatura.

• Control atmosférico y flujo de gases:

  • El horno incluye bridas de sellado al vacío de acero inoxidable con válvulas, un manómetro de vacío y cuatro bloques de cerámica térmica para gestionar el flujo de gas.
  • Se pueden manejar múltiples procesos atmosféricos en un solo ciclo, como la quema de aglutinante en aire y la sinterización de piezas en entornos de vacío o gas inerte.

• Sistema de vacío y bombeo:

  • La bomba de vacío está disponible para su compra y se puede agregar un carrito de vacío móvil cuando la bomba y el controlador de vacío digital se compran juntos.
  • El sistema garantiza que la cámara del horno mantenga el nivel de vacío requerido durante el funcionamiento.

• Generador de RF de alta frecuencia para PECVD:

  • El generador de RF funciona con una frecuencia de 13 MHz con una excelente estabilidad ( ±0,005% ).
  • El generador proporciona un rango de potencia de salida ajustable de 5 a 500 vatios , lo que permite un control preciso del proceso de deposición de plasma.
  • La adaptación automática garantiza un rendimiento óptimo al ajustar los cambios de impedancia durante el funcionamiento.
  • El puerto de salida RF es de 50 Ω, tipo N, hembra , adecuado para conectar cables RF.

• Interfaz y monitorización informática:

  • El sistema tiene una interfaz de computadora incorporada para control y monitoreo remoto, permitiendo a los usuarios conectar el horno a una PC.
  • El controlador Eurotherm® permite a los usuarios guardar y exportar resultados de pruebas para su posterior análisis o mantenimiento de registros.

• Seguridad y protección:

  • La protección contra sobrecalentamiento apaga automáticamente el horno si la temperatura excede el rango aceptable o si hay una falla en el termopar.
  • La protección contra fallas de energía garantiza que el horno reanude su funcionamiento desde el punto donde se interrumpió una vez que se restablezca la energía.
  • Advertencia: El horno nunca debe llenarse con gases explosivos como hidrógeno, monóxido de carbono o metano , que podrían representar riesgos de seguridad importantes.

Presupuesto:

Horno:

• Material del tubo: Cuarzo
• Elemento calefactor: Cable de bobina de resistencia Kanthal® A1 2.0
• Revestimiento refractario: alúmina con fibra de grado 1500 de Mitsubishi®
• Rango de temperatura:
  • Temperatura máxima de trabajo: 1200 °C
  • Temperatura de trabajo constante: 1100 °C
  • Termopar: Tipo K
• Control de temperatura:
  • Controlador PID (Eurotherm® UK)
  • Precisión del control de temperatura: ±1 °C (±1,8 °F)
  • Velocidad de calentamiento: < 30 °C/min

Bomba de vacío y sistema de sellado:

• Bridas de Sellado al Vacío: Bridas de acero inoxidable con válvulas y manómetro de vacío para sellado y gestión de gases.
• Manómetro de vacío: Incluido para monitorear la presión de la cámara interna.
• Carro móvil de vacío: disponible con la compra de una bomba de vacío y un controlador de vacío digital.

Requisitos eléctricos:

• Horno Eléctrico: 208-240 V, 50/60 Hz, monofásico
• Generador de RF Eléctrico: 208-240 V, 50/60 Hz
• Potencia de salida de RF: ajustable de 5 a 500 vatios (en pasos de ±1%)
• Frecuencia de RF: 13 MHz con ±0,005 % de estabilidad
• Potencia de reflexión: 200 vatios máximo
• Puerto de salida RF: 50 Ω, tipo N hembra

Características de seguridad:

• Protección contra sobrecalentamiento: Apagado automático cuando se excede el rango de temperatura o falla del termopar.
• Protección contra cortes de energía: el horno reanuda su funcionamiento después de restablecerse el suministro eléctrico.
• Advertencia: No se deben utilizar gases peligrosos (por ejemplo, hidrógeno, CO, metano).

Aplicaciones:

El horno CVD/PECVD de la serie STF1200 es ideal para:

• Deposición de película fina: se utiliza en la fabricación de semiconductores, recubrimientos y procesamiento de materiales.
• Tratamiento con plasma: mejora de las propiedades de la superficie, grabado y otros procesos basados ​​en plasma.
• Investigación avanzada: adecuado para la investigación en ciencia de materiales, especialmente cuando se requieren condiciones atmosféricas y de temperatura precisas para la producción de películas delgadas o procesos mejorados con plasma.