Generador de RF Ai de 500 vatios y 13 MHz para hornos de tubo de hasta 150 mm

Generador de RF de la serie Ai RF500

El generador de RF Ai RF500 proporciona una potencia de salida confiable de 500 vatios con una frecuencia estable de 13,56 MHz, ideal para sistemas PECVD caseros y aplicaciones como grabado de plasma, limpieza y polimerización. Su diseño robusto admite tubos de hasta 150 mm de diámetro exterior, lo que garantiza versatilidad para una variedad de procesos basados ​​en plasma.

Características principales:

• Potencia de salida: ajustable de 5 a 500 vatios con control de paso preciso de +/-1%.
• Estabilidad de frecuencia: 13,56 MHz con una impresionante precisión de +/-0,005 %.
• Coincidencia automática: adaptación de impedancia perfecta para un funcionamiento eficiente.
• Puerto de salida RF: Conector hembra tipo N de 50 Ω para compatibilidad con varios sistemas.
• Refrigeración: El sistema refrigerado por aire garantiza un funcionamiento estable y continuo.

Presupuesto:

• Requisitos eléctricos: 208-240 voltios, 50/60 Hz
• Potencia de reflexión: hasta 200 vatios máximo
• Tubos compatibles: hasta 150 mm de diámetro exterior
• Construcción: Durable y diseñada para un rendimiento constante en condiciones exigentes.

Aplicaciones:

• Deposición química en fase de vapor mejorada por plasma (PECVD)
• Grabado de plasma y modificación de superficies
• Limpieza con plasma y eliminación de contaminación
• Polimerización de plasma para recubrimientos de materiales

El generador de RF Ai RF500 combina precisión, potencia y confiabilidad, lo que lo convierte en la mejor opción tanto para sistemas de plasma industriales como de investigación.